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小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備 用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電極及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。
抗粘 劑氣相涂布烘箱，抗粘劑 氣相沉積系統(tǒng)主要用于納米壓印光刻（NIL）應(yīng)用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中硅烷涂膠；以及功率半導(dǎo)體,LED,MEMS,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
真空儲(chǔ)存柜，真空干燥柜適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級(jí)金屬制品、厭氧產(chǎn)品、易氧化產(chǎn)品等）及機(jī)金屬加工件與各類不便于冷藏的食品，還有書籍、衣物等厭氧物品的真空存貯，以防潮、防氧化變色。適用于工廠、高等院校、科研等場所。
抗粘劑涂膠機(jī)，抗粘 劑真空預(yù)處理系統(tǒng)用于半導(dǎo)體，光電、電子行業(yè)硅片或石英硬模板等材料，如制備各種微納電子器件、光學(xué)器件、光電器件、存儲(chǔ)器、微流體通道、生物芯片等微納結(jié)構(gòu)制備方面的應(yīng)用。
勻膠機(jī)，可程式勻膠 機(jī)用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
