無氧固化爐,高溫無氧化固化烤箱應用半導體晶片、半導體封裝和MEMS器件的批量生產(chǎn)。主要用于PI/CPI固化,BCB固化,PBO固化,LCP纖維熱處理。
高溫無氧化固化烤箱應用半導體晶片、半導體封裝和MEMS器件的批量生產(chǎn)。主要用于PI/CPI固化,BCB固化,PBO固化,LCP纖維熱處理。
無氧固化爐,高溫無氧化固化烤箱的基本原理
下面我們將分步驟來介紹固化爐的工作原理 :
第一:高溫功能的實現(xiàn)為爐腔加熱, 固化爐的加熱系統(tǒng)通常由幾個加熱器和溫度控制器組成。首先,加熱器發(fā)出熱量將氣體熱量在烘箱內循環(huán),使爐腔內的溫度逐步升高。然后,由溫度控制器來控制加熱輸出量的大小,控制箱內溫度的高低;
第二:低氧濃度的實現(xiàn)為氣體置換,固化爐箱內是一個密閉的空間,在進氣口使用N2等惰性氣體充入箱內,氣體經(jīng)過箱內循環(huán)后將空氣和混合氣體通過排氣口排出(真空無氧烘箱可先抽真空后再充入氮氣,從而多次循環(huán)),達到降低箱內氧氣濃度的目的。
第三:無氧固化爐,高溫無氧固化爐結構:
箱體結構: 內箱采用SUS304/316L不銹鋼制作,以全周氬弧焊無縫處理; 外箱采用優(yōu)質不銹鋼或冷軋板靜電噴塑處理; 外箱保溫材質用高級超細陶瓷纖維保溫,六面保溫斷熱,達到降低機臺表面溫度的目的。
無氧固化爐,高溫無氧化固化烤箱性能:
溫度范圍:RT-350/450/550度
真空度:低于100Pa
操作界面:彩色人機界面,一鍵運行
冷卻方式:水冷卻+風冷
氣路:2-3路N2
程序模式:程序運行5-10個,每個程序可設置25步
氧含量:10ppm
工作腔:1/2/4/8可選
內腔容積:500*500*550mm、定制